用途场景
研发
实验室研发、新产品开发、技术研究
生产
生产线检测、工艺控制、制造过程监控
品控
质量检验、来料检测、成品测试
合规认证
计量检测、仪器校准、精度验证
教学实训
教学实验、技能培训、实训演示
维修
设备维修、故障诊断、维护保养
规格参数
技术参数
| 分辨率 | 所有电子束的平均分辨率 @ 1.0 kV、1.5 kV、3.0 kV | ≤ 3.5 nm |
| 分辨率的均匀性 | @ 1.0 kV、1.5 kv、3.0 kv 和 12 um 间距 | ≤ ±1 nm |
| 着陆能量 | 范围 | 1.0- 3.0 kv |
| 电子束布局 | 电子束图样 | 六边形 |
| 电子束数量 | 91 | |
| 间距(单束光成像宽度) | 12 μm 间距 /15 μm（可选） | |
| 间距均匀性 | ≤ ±1% | |
| 观察视野(FOV) | 六边形的长轴12 μm 或 15 μm(间距) | 132 um / 165 um |
| 电子束流 | 单个电子束 | ≥ 570 pA |
| 总电流 | ≥ 52 nA | |
| 均匀性 | ≤+10% | |
| 电子源 | 灯丝 | 肖特基发射源 |
| 灯丝电流稳定性 | ≤ 1% 每小时 | |
| 束闸 | 静电束闸 | |
| 工作距离 | 1.4 mm | |
| 检测器 | 带有高效多重检测装置的二次电子投影光学系统 | |
| 扫描 | ||
| 扫描速率 | 最大为每束 20 MHZ，可提供不同的离散扫描速度 | |
| 扫描模式 | 逐行扫描 | |
| 像素尺寸 | 12 μm 间距的范围 | 2 nm-20 nm |
| 15 um 间距的范围 | 2.5 nm- 20 nm | |
| 扫描布局 | 图像拼接包含由 91 个以六边形模式排列的子图像 | |
| 可调整相邻扫描区域的重叠度 | ||
| 载物台和样品 | ||
| 载物台 | 类型 | 步进载物台 |
| 可用行程范围 xy/z | 100/100/30 mm | |
| 可重复性 XY | ≤ ±3 μm | |
| 放置时间 | S 1.5 s | |
| 样品要求 | 在 xY 中的最大尺寸 | 100 x 100 mm2 |
| 最大高度 | ≤ 30 mm | |
| 最大平整度 | ≤ 500 nm/100 μm(峰值到峰值) | |
| 最大重量 | ≤ 0.2 kg | |
| 样品更换时间 | 带有样品交换室 | ≤ 5 min |
| 软件 | ||
| 用户界面 | 用于 MultiSEM 的 ZEN | |
| 应用编程接口(API) | 用于自定义的工作流开发 | |
| Shuttle g Find 功能 | 从不同的成像方式(如光学显微镜或单光束扫描电子显微镜)可靠地转移样品坐标 | |
| 性能监控 | 检查所有相关的系统参数，如真空压力或光学器件对准质量 | |
| 平行软件结构 | 分布式图像采集 | |
| 数据库支持 | 用于工作流和数据管理 | |
| 自动校准功能 | 自动聚焦、自动消像散和探测器均衡化等 | |
| 图像采集工作流 | ||
| 图形化的实验设置 | 基于感兴趣区域选择的图像 | |
| 自动切片检测(可选) | 适用于连续切片成像的快速工作流设置 | |
| 互动要求 | 最多1小时 /24 小时专用于光束对准和校准的用户互动 | |
| 计算机硬件 | ||
| 主要控制器 | ≥4核 CPU(64 位)，≥32 GB DDR,≥1TB HD，最少2个1 Gbit 以太网接囗 | |
| 主要控制器的操作系统 | Windows”10(64位) | |
| 显示屏 | 2 台显示器，1920x1080 像素，24" | |
| 图像采集 | 12 台计算机，在 19"机架上 | |
| 图像采集计算机 | ≥4核 CPU(64位)，氵32 GB DDR3，1 Gbit 以太网，10 Gbit 以太网与客户网络连接 | |
| 到客户网络的数据传输速度 | > 10 Gbit 以太网 | |
| 真空系统 | ||
| 样品室真空泵 | 涡轮分子泵(> 260 L/s);无油涡旋泵 | |
| 样品室操作真空度 | ≤ 1x10-5mbar | |
| 监控 | 自动监控所有相关的真空度 | |
性能特点
充分运用多达91条并行电子束的采集速度，用纳米分辨率对厘米级样品进行成像。这款独特的扫描电子显微镜设计用于全天候连续、可靠的运行。只需简单设置高通量数据采集工作流，MultiSEM便能自动完成高衬度图像采集。
- 成像速度极快
- 自动大区域图像采集
- 宏观信息下的纳米级细节
- 低噪点高衬度图像
- 电子显微镜速度
多条电子束并行，为您带来出色的总体成像速度，在4 nm像素大小下采集1 mm2的区域仅需几分钟。凭借每小时超过1 TB的出色采集速度，可在纳米级分辨率下对大体积物体（> 1 mm3）进行成像。 优化的探测器会高效收集二次电子信号，为您在低噪点水平下提供高衬度图像。
- 以纳米级分辨率对大型样品进行成像
不必再为实现纳米级分辨率而牺牲样品尺寸。MultiSEM配备了一个覆盖10 cm × 10 cm区域的样品载具，并可全天候连续运行。现在，您可对整个样品进行成像，获取包含宏观信息的精细图像，探索您所需要的一切，探寻科学问题的答案。
- 配备ZEN成像软件的电子显微镜
通过将ZEN引入MultiSEM，我们将蔡司光学显微镜的标准化软件带入了电子显微镜的世界。以一种简单直观的方式操控MultiSEM：智能自动调节程序助您捕获具有高分辨率和高质量的出色图像。您可以快速设置复杂的自动图像采集流程，将其用于您的样品成像。
- 多条电子束和探测器并行
MultiSEM运用了多条电子束（绿色：照明通路）和探测器并行。微调探测通路（红色）能够收集大量的二次电子（SE）用于成像。电子束呈六边形排列，每条电子束在一个样品位置执行同步扫描程序，以此获得单个子图像，再通过合并所有图像拼接生成整幅图像。并行的计算机设置程序用于快速记录数据，以保证达到极高的整体成像速度。在MultiSEM系统中，图像采集和工作流程控制完全独立。
应用范围
生物研究、生物样品
